yl8cc永利-官方网站
网站地图
加入收藏
中文
English
首页
中心概况
研究队伍
科学研究
交流合作
人才培养
人才招聘
当前位置:
首页
-
交流合作
-
专题学术讲座
- 正文
大师讲堂
专题学术讲座
学术会议
中心报告会
专题学术讲座
清华物理系colloquium:近场光学中的非聚焦成像
报告题目:
Full Band Engineering towards Topological State with Simultaneous Nonzero
报 告 人:
王怀玉 教授, 清华大学物理系
报告时间:
2013年3月21日(周四)16:00
报告地点:
理科楼郑裕彤讲堂
报告摘要:
成像的概念一般与聚焦的概念联系在一起。而聚焦其实是一个远场光学的概念,也就是与平面波相联系的概念。在近场光学中,电磁场的分布并不是平面波。我们将介绍这时的成像是什么机理。此时,一个金属薄膜可以作为一个成像的器件。金属薄膜成像,被误认为是负折射率材料的成像。为此,我们将回顾负折射率的基本概念,介绍负折射率材料成像的条件。
版权所有 量子物质科学协同创新中心
本页已经浏览
次